ARTUS 10금속 분석을 위한 혁신적인 분광분석기
고성능 CMOS 센서로 빠른 분석 속도와 정밀한 검출 성능 듀얼 광학계 및 극저온 냉각으로 미량 비금속까지 정확하게 측정 시편 결함으로 인한 스파크 오차를 자동 제거해 분석 신뢰성 극대화
ARTUS 10은 입고되는 강재와 비철금속, 소재를 알 수 없는 미지 시료, 복합 금속 재료를 다루며 공정 중 시험과 최종 품질관리를 수행하는 현장을 위한 분광분석기입니다. 프리미엄 하이엔드 솔루션을 찾는 사용자의 요구를 충족합니다
맞춤 설계 CMOS 센서 기술:
분광분석기 성능의 정점
CMOS 이미지 센서는 극히 낮은 노이즈, 빠른 프레임 속도, 넓은 다이내믹 레인지, 높은 양자효율과 고분해능을 함께 제공합니다.
ARTUS 10에는 과학용 등급의 CMOS 센서가 탑재되어 분석 시간을 초 단위로 단축했습니다.
분석 시간이 짧아지면 작업자의 공정 시간도 함께 줄어듭니다. 맞춤 설계된 검출기는 분해능을 크게 끌어올렸습니다.
OEO(Optimal Element-Oriented) 기술을 적용해 검출기의 어떤 픽셀 위치 신호든 개별적으로 추출할 수 있으며, 이를 통해 원소마다 독립적인 파라미터 최적화와 취득 분석이 가능합니다. 자외선 영역 원소(C, P, S, N)도 손쉽게 검출됩니다.
추가 알고리즘: 더 효율적인 검출을 위하여
OEO와 RTMC(Real Time Management & Control) 알고리즘이 CMOS 검출의 효율을 한층 높여 줍니다.
지능적으로 정합된 스파크 방전 파형은 변동이 큰 원소의 검출 성능을 개선합니다.
지능형 알고리즘은 배경 간섭을 제거해 최적의 분석 성능을 이끌어 냅니다.
ASR(Aberrant Spark Removed) 기술은 비정상 방전을 걸러내어 분석 정확도를 높입니다.
ARTUS 10은 형상이 불규칙한 시료에 대한 대응력도 뛰어납니다.
기공 같은 시료 결함을 다루기가 한결 수월해지고, 분석 중 작업자 실수의 가능성도 줄어듭니다.
직경 0.1mm의 가는 선재부터 200g에 이르는 큰 덩어리까지 측정할 수 있으며, 관재나 선재처럼 형상이 제각각인 시료를 위한 전용 시료 홀더도 마련되어 있습니다
멀티 CMOS 검출기 설계
ARTUS 10은 대단히 민감한 검출 시스템을 갖추고 있습니다.
CMOS 감광 검출기가 듀얼 광학계와 결합되면서 ppm 수준의 검출 한계를 달성할 수 있습니다
- 1. 가시광 광학계
- 2. 여기(勵起) 시스템
- 3. 자외선 광학계
- 4. 디지털 광원 시스템
- 5. 검출기 냉각 시스템 (옵션)
- 6. 데이터 처리 시스템
- 7. 아르곤 제어 시스템
듀얼 광학계 설계
ARTUS 10의 듀얼 광학계 설계는 넓은 스펙트럼 범위 두 개와 높은 등급의 분해능을 함께 제공합니다.
덕분에 비금속 자외선 원소(C, P, S, N)를 더 정확하게 분석할 수 있습니다. 진공펌프도, 구동부도 없으며 빛의 왜곡이나 오일 오염도 발생하지 않습니다.
ARTUS 10의 항온 광학계는 최고 수준의 가열 부품을 사용해 안정적인 온도 조건을 유지합니다.
최적화된 열 설계 방식이 즉각적인 온도 보상을 구현합니다
높은 열 안정성
높은 열 안정성이 안정적인 광학계와 장비 데이터를 보장합니다.
범용 가열 부품 가운데 선택할 수 있는 옵션을 제공합니다.
지능형 온도 보상 알고리즘을 적용한 최적화 열 설계입니다.
모든 광학 셀은 열 안정성 시험을 거칩니다.
가스 유동 설계
ARTUS 10의 유체 가스 채널 설계는 더 짧은 시간 안에 아르곤 가스를 균일하게 채워 줍니다.
여기 시간이 단축되고 효율이 높아진다는 뜻입니다.
챔버 내부의 자가 세정 기능은 여기 영역을 지속적으로 관리해야 하는 부담을 덜어 줍니다
ARTUS 10의 광실(光室)은 4단계 응력 제거 처리를 거친 다이캐스팅 알루미늄 케이스로 제작되어 스펙트럼 위치의 장기 안정성을 보장합니다.
정밀하게 설계된 기류 경로가 모든 것을 한층 안정적으로 만들어 줍니다.
아르곤이 최단 시간에 여기 테이블을 균일하게 채웁니다.
시료 여기 시간이 줄어들어 검출 효율이 높아지고 아르곤이 절약됩니다.
챔버 자가 세정 기능으로 유지관리 부담이 줄어듭니다.
가스 밀폐형 유체 설계의 장점 덕분에 ARTUS 10은 공기 유량 0.3 L/min 이하(플라즈마 유량 2 L/min)와 총 아르곤 유량 3L/min으로 운용됩니다.
다른 시스템이 요구하는 7 L/min과 비교되는 수치입니다.
